Former ASML head scientist Lin Nan drives China’s latest EUV breakthrough | 前阿斯麦首席科学家林楠助力中国EUV技术最新突破

中国科学院上海光学精密机械研究所的研究团队在极紫外（EUV）光源技术上取得突破，成功构建了一个达到国际竞争水平的EUV光源平台，为国产高端芯片制造扫清了一大障碍。该团队由林楠领导，他曾任职于荷兰ASML公司，担任光源技术负责人。ASML是全球唯一一家EUV光刻机制造商，而EUV光刻机是生产7纳米以下制程芯片的关键设备，但自2019年以来，在美国的压力下，ASML一直被禁止向中国出售其最先进的型号。

ASML首席执行官曾表示，中国要制造出EUV光刻机需要很多年。林楠于2021年回国，参与中国海外高层次人才引进计划，并组建了先进光刻技术研究团队，负责该研究论文的撰写。值得一提的是，林楠在加入ASML之前，曾师从2023年诺贝尔物理学奖得主Anne L’Huillier。

via SCMP Full Text Feed