China debuts first e-beam lithography tool for commercial use in chip milestone | 中国推出首款商用电子束光刻机，芯片制造迈出重要一步

中国即将交付首台自主研发的电子束光刻机“溪之”，标志着其芯片制造能力的重要突破。这台由浙江大学杭州的量子技术实验室开发的设备，采用聚焦电子束在硅片上“刻写”芯片电路，代表中国在高端光刻技术上的新进展。

据杭州日报报道，由于出口管制，国内主要科研机构如中国科学技术大学和浙江实验室一直难以获得此类设备。溪之的交付预计将打破这一技术壁垒，推动中国在高端芯片制造技术上的自主研发。为应对美国对高科技设备的出口限制，北京近年来不断加强芯片制造的自主化努力，取得了显著的进展。

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