China’s new hope in breaking reliance on foreign chipmaking machines | 中国打破对外国芯片制造设备依赖的新希望
中国新兴光刻设备制造商AMIES Technology在深圳举办的行业展会上展示了其最新芯片制造产品，为中国减少对荷兰巨头ASML依赖带来了新的希望。该公司展示了包括复合半导体光刻机、激光退火系统、高级检测工具以及封装和晶圆键合解决方案在内的多种产品。此次展会名为WeSemiBay半导体生态系统博览会2025，吸引了600多家参展商，包括华为合作伙伴SiCarrier。
先进光刻技术仍是中国芯片制造发展的重要瓶颈。受美国出口管制影响，中国无法获得ASML顶尖的深紫外（DUV）和极紫外（EUV）光刻设备，导致技术水平远远落后于全球领先者。AMIES成立于今年2月，是中国领先光刻企业国有上海微电子装备（SMEE）的分拆公司，旨在加快设备商业化进程。相比之下，SMEE主要专注于半导体后端封装等对光刻技术要求较低的工艺。
目前，AMIES和SMEE的光刻设备主要支持90纳米及以上工艺节点。虽然2023年底其股东张江集团曾宣称SMEE成功研发出28纳米光刻机，但该说法随后被撤回。AMIES的成立被视为中国在前端晶圆制造领域追赶西方技术的重要一步，尤其是在美国限制高端技术出口的背景下。
via SCMP Full Text Feed
中国新兴光刻设备制造商AMIES Technology在深圳举办的行业展会上展示了其最新芯片制造产品，为中国减少对荷兰巨头ASML依赖带来了新的希望。该公司展示了包括复合半导体光刻机、激光退火系统、高级检测工具以及封装和晶圆键合解决方案在内的多种产品。此次展会名为WeSemiBay半导体生态系统博览会2025，吸引了600多家参展商，包括华为合作伙伴SiCarrier。
先进光刻技术仍是中国芯片制造发展的重要瓶颈。受美国出口管制影响，中国无法获得ASML顶尖的深紫外（DUV）和极紫外（EUV）光刻设备，导致技术水平远远落后于全球领先者。AMIES成立于今年2月，是中国领先光刻企业国有上海微电子装备（SMEE）的分拆公司，旨在加快设备商业化进程。相比之下，SMEE主要专注于半导体后端封装等对光刻技术要求较低的工艺。
目前，AMIES和SMEE的光刻设备主要支持90纳米及以上工艺节点。虽然2023年底其股东张江集团曾宣称SMEE成功研发出28纳米光刻机，但该说法随后被撤回。AMIES的成立被视为中国在前端晶圆制造领域追赶西方技术的重要一步，尤其是在美国限制高端技术出口的背景下。
via SCMP Full Text Feed
