Tech war: Chinese researchers claim breakthrough in lithography materials | 科技战：中方科研人员宣布光刻材料取得突破

中国科研团队在光刻技术方面取得重要突破，有助于实现芯片制造的自主可控。来自北京大学的科学家们与合作伙伴共同研究，成功实现了光刻胶（光敏材料）分子行为的可视化，这一成果发表在顶级科学期刊《自然》上。

光刻胶在芯片制造中起着关键作用，广泛应用于光刻和蚀刻等工艺，形成芯片上的图案。中国目前依赖进口光刻胶材料，这限制了其先进芯片的生产能力。此次突破有望显著降低制造缺陷，解决7纳米及以下工艺中的关键瓶颈，从而推动中国芯片产业的自主发展。

科学家们指出，尽管经过数十年的研究，光刻胶在液膜和界面上的微观行为仍难以完全掌握，这导致缺陷控制主要依靠试错。此次研究的成功为解决这一难题提供了新的技术基础，有助于提升芯片生产的良品率和自主创新能力。

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