‘华丽工具’：中国如何将芯片缺陷率降低99%实现近乎完美的光刻 | “华丽工具”：中国如何将芯片缺陷率降低99%实现近乎完美的光刻

中国科研团队开发出一项新方法，能够将芯片制造中光刻缺陷率降低高达99%，实现了半导体行业的重大突破。研究团队利用冷冻电子断层扫描技术（cryo-ET）首次精准定位了制造缺陷的微小源头，从而大幅提高了缺陷检测的清晰度。这一成果于9月30日发表在《自然通信》杂志上，被评论为“先进的工具”，将大大惠及同行研究者和产业应用。

据北京大学彭海林教授介绍，该技术与现有半导体生产线兼容，能在直径12英寸的晶圆上将光刻缺陷减少至99%，带来显著的成本节约。光刻是芯片制造中至关重要的一步，类似于在硅片上“印刷”电路，通过超精密的投影仪将预设计的电路图案转印到晶圆上，确保芯片的正常功能。

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