China uses groundbreaking desktop-sized EUV light source to make 14-nm chips | 中国采用创新桌面式极紫外光源制造14纳米芯片

**中国科学家和工程师正在将现代芯片制造中最复杂、最昂贵的极紫外（EUV）光源技术缩小到桌面大小，并用于生产14纳米芯片。**虽然14纳米芯片已不再是尖端技术——商业晶圆厂已进入3纳米时代，但它们在性能、成本和效率方面仍具有重要应用，广泛用于工业自动化、电动车和智能穿戴设备等领域。

在10月下旬举行的超高速X学术会议上，来自中国安徽的合肥Lumiverse科技展示了一项极紫外光源技术。据公司发言人介绍，该公司专注于半导体检测和量子芯片制造，已有工业客户使用这种缩小版的EUV光源生产14纳米芯片。EUV光源是制造7纳米以下芯片光刻机的关键部件，但其技术复杂、设备庞大且昂贵。例如，行业领头企业ASML的NXE:3400B光源长约12米，高4米。

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