China eyes mastery of EUV lithography, bolstering AI chip ambitions | 分析师：预计中国瞄准极紫外光刻技术以强化人工智能芯片布局

中国在极紫外（EUV）光刻机技术方面取得了重要突破，成功研发出一台原型机。这一成就由深圳一个高安全级别的实验室的科学家团队完成，他们利用从二手市场获取的旧款ASML EUV设备零部件，逆向工程出该机型。这一突破如果成功，将极大提升中国在高端芯片制造领域的自主能力，并可能改变中美科技竞争的格局。

专家认为，掌握EUV技术对于中国的国家安全和科技自主具有重要意义。分析人士指出，这项技术的突破将增强中国在国际科技和地缘政治中的影响力，特别是在国防和高性能计算系统方面。中国的目标是实现半导体产业的自主可控，这一努力显示出其在逆向工程和技术研发上的决心，可能提前实现比西方预期更接近半导体自给自足的目标。

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