China stockpiles ASML lithography tools, spurring US calls for complete export ban | 中国囤积ASML光刻设备，引发美国全面禁售呼声
据最新报道，尽管深紫外（DUV）光刻设备在技术上不如极紫外（EUV）设备先进，但经过适当调整后，仍可用于制造7纳米逻辑芯片以及面向AI处理器的先进存储器。这一发现表明，较为成熟的DUV技术在先进制程领域依然具有重要的应用价值。
DUV光刻是目前应用广泛的成熟技术，而EUV则是制造最尖端芯片的关键设备。报道指出，通过工艺上的改进与调整，DUV设备能够实现7纳米级别芯片的生产。这意味着即使无法获得更先进的EUV设备，芯片制造商依然有途径推进先进制程的研发与量产。
随着人工智能产业的快速发展，市场对高性能AI芯片及其配套存储器的需求持续增长。DUV技术在7纳米制程和先进存储器制造方面的应用潜力，或将为全球芯片供应链提供更多的灵活性与保障。
via South China Morning Post
据最新报道，尽管深紫外（DUV）光刻设备在技术上不如极紫外（EUV）设备先进，但经过适当调整后，仍可用于制造7纳米逻辑芯片以及面向AI处理器的先进存储器。这一发现表明，较为成熟的DUV技术在先进制程领域依然具有重要的应用价值。
DUV光刻是目前应用广泛的成熟技术，而EUV则是制造最尖端芯片的关键设备。报道指出，通过工艺上的改进与调整，DUV设备能够实现7纳米级别芯片的生产。这意味着即使无法获得更先进的EUV设备，芯片制造商依然有途径推进先进制程的研发与量产。
随着人工智能产业的快速发展，市场对高性能AI芯片及其配套存储器的需求持续增长。DUV技术在7纳米制程和先进存储器制造方面的应用潜力，或将为全球芯片供应链提供更多的灵活性与保障。
via South China Morning Post
